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    SK海力士宣布,已成功开发出全球首款采用1cnm(第六代10nm级别)工艺的16Gb DDR5 DRAM,向世界展现了10nm出头的超微细化存储工艺技术。SK海力士将在年内完成1cnm DDR5 DRAM的量产准备,从明年开始供应产品,继续引领半导体存储器市场的发展。

    SK海力士是在基于目前最高性能的1β (b) nm(第五代10nm级别)工艺扩展平台上,以最高效的方法开发出1cnm工艺。SK海力士技术团队认为,由此不仅可以减少工艺高度化过程中可能发生的尝试错误,还可以最有效地将业界内最高性能DRAM转移到新工艺。在这个过程中,SK海力士运用了新材料,并针对EUV适用工艺进行了优化,以确保成本竞争力。与此同时,SK海力士在1cnm工艺上也进行了设计技术革新,与前一代1β (b) nm工艺相比,生产率提高了30%以上。

    这次1cnm DDR5 DRAM将主要用于高性能数据中心,运行速率为8Gbps,与前一代相比速度提高了11%,另外能效也提高了9%以上。随着AI时代的到来,数据中心的耗电量在继续增加,SK海力士称改用1cnm DDR5 DRAM后,可以为数据中心节省30%以上的电费。

    SK海力士表示,新的1cnm工艺技术兼备着最高性能和成本竞争力,计划应用于新一代HBM、LPDDR6、GDDR7等最先进DRAM主力产品群,由此为客户提供差别化的价值。

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