美光计划在日本建造新的DRAM工厂，预计2027年末投入运营

据TrendForce报道，美光计划在日本广岛县建造一座新的DRAM工厂，预计投资金额在6000亿至8000亿日元之间（约合人民币277.06亿至369.41亿元）。美光计划2026年初开工建设，目标2027年末投入运营，其中将会安装极紫外（EUV）光刻设备，将以1-gamma（1γ）工艺生产DRAM芯片。

据了解，日本政府已经批准高达1920亿日元（约合人民币88.66亿元）的补贴，以支持美光的广岛工厂生产下一代芯片。日本经济产业省去年表示，这笔补助资金将帮助美光整合ASML提供的EUV光刻设备，生产的芯片将为人工智能（AI）、高性能计算（HPC）和自动驾驶技术提供动力，对于未来科技的发展至关重要。

美光在当地本身就有生产设施，其实在更早之前已经计划扩充并升级生产线。美光最初计划2024年初之前开始运营新工厂，但是出于各种不利市场条件，最后调整了时间表。此外，美光还在2013年收购了日本的DRAM厂商尔必达（Elpida），得到了4000多名工程师和技术人员，增强了自身的技术实力。

近年来，日本在半导体领域呈现了复苏的趋势，日本经济产业省与各个私营部门展开多方面合作，促进了相关产业的布局和发展，同时有利的汇率政策也有助于工厂建设和投资。不过日本半导体人才面临短缺，或许要通过人才发展补贴计划来满足未来的发展需要。