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  • 拼 命 加 载 中 ...   台积电曾在8月初表示,40nm核心工艺的良品率已由年初的30%提升至60%,但是近日有消息指台积电在40nm工艺上再遇障碍,导致良率下降至40%,而这一消息已经得到了台积电CEO张忠谋的证实。

      据Digitimes报道,台积电透露40nm良率下降是缘于设备腔体接合(chamber matching)问题,而目前主要的客户仍然是刚刚发布Radeon HD 5800系列的AMD和正在积极筹备GT300的NVIDIA。虽然张忠谋承诺将在本季度解决这一问题,但是仍然极有可能影响到两家的产品供货计划。

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    已有 2 条评论,共 2 人参与。
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    • 游客  2009-10-31 12:41

      该评论年代久远,荒废失修,暂不可见。

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      2#

    • 游客  2009-10-30 17:57

      该评论年代久远,荒废失修,暂不可见。

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      1#

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